Il metodo di evaporazione con fascio di elettroni è un tipo di rivestimento di evaporazione sotto vuoto, che utilizza fasci di elettroni per riscaldare direttamente il materiale di evaporazione in condizioni di vuoto, vaporizzare il materiale di evaporazione e trasportarlo sul substrato e condensare sul substrato per formare una pellicola sottile.Nel dispositivo di riscaldamento a fascio di elettroni, la sostanza riscaldata viene posta in un crogiolo raffreddato ad acqua, che può evitare la reazione tra il materiale di evaporazione e la parete del crogiolo e influenzare la qualità della pellicola.È possibile posizionare più crogioli nel dispositivo per ottenere l'evaporazione e la deposizione simultanea o separata di varie sostanze.Con l'evaporazione a fascio di elettroni, qualsiasi materiale può essere evaporato.
L'evaporazione del fascio di elettroni può far evaporare materiali ad alto punto di fusione.Rispetto all'evaporazione con riscaldamento a resistenza generale, ha una maggiore efficienza termica, una maggiore densità di corrente del fascio e una velocità di evaporazione più rapida.Film e pellicole di vari materiali ottici come il vetro conduttivo.
La caratteristica dell'evaporazione del fascio di elettroni è che non copre o raramente copre i due lati della struttura tridimensionale del bersaglio e di solito si deposita solo sulla superficie del bersaglio.Questa è la differenza tra evaporazione del fascio di elettroni e sputtering.
L'evaporazione del fascio di elettroni è comunemente utilizzata nel campo della ricerca e dell'industria dei semiconduttori.L'energia accelerata degli elettroni viene utilizzata per colpire il bersaglio materiale, provocandone l'evaporazione e l'innalzamento.Alla fine depositato sul bersaglio.
Orario di pubblicazione: 02-dic-2022